栃木県小山市–(BUSINESS WIRE)–(ビジネスワイヤ) — リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 都丸仁、www.gigaphoton.com)は、同社の「ヘリウムフリー」技術を用いた高出力ArF液浸エキシマレーザー(以下ArFレーザー)の、ヘリウムガス削減量が全世界で年間1万キロリットルにのぼると発表しました。 ギガフォトンは、2013年より顧客の環境負荷低減活動であるグリーンイノベーション活動を独自のエコフォトンプログラム(注に沿って継続しており、その豊富な実績と経験を生かしてこれまで主に顧客の様々なコストを削減してきました。また7月には、グリーンイノベーションの新たなロードマップも発表しています。その中でも、ヘリウムガス供給懸念へのソリューションである「ヘリウムフリー」技術は半導体業界にとどまらず産業界への大きな貢献となっています。 この技術は、ArFレーザー内でパージガスとして使用されるヘリウムガスを窒素に置き換えることにより、その使用量を99%削減させる世界初の技術です。また、窒素に置き換えても光学